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深圳彈片手板廠(chǎng)家講述真空鍍分類(lèi)

發(fā)布時(shí)間：2023-06-14 08:27:10  瀏覽次數：
深圳彈片手板廠(chǎng)家講述真空鍍根據方法不同分為：蒸發(fā)鍍、濺射鍍及離子鍍。
蒸發(fā)鍍是在真空度不低于1~2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱、電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱震動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量的分子、原子蒸發(fā)或升華，并直接沉積在基片上形成薄膜。
 
深圳彈片手板廠(chǎng)家講述蒸發(fā)鍍通俗的說(shuō)，就是在高真空環(huán)境下給金屬加熱，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻之后在樣品表面形成金屬薄膜的方法。蒸發(fā)鍍被金屬材料包括金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等，其中應用的最多的是鋁。
 
2.深圳彈片手板廠(chǎng)家講述濺射鍍是利用氣體或分子溢出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。濺射鍍的材料廣泛，任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)、低蒸汽壓的元素和化合物，濺射膜與基板之間的附著(zhù)性好，薄膜密度高，膜厚可控制和重復性好等。與蒸發(fā)鍍相比，濺射鍍缺點(diǎn)是設備比較復雜、需要高壓裝置、速度比蒸發(fā)鍍慢。
 
3.深圳彈片手板廠(chǎng)家講述離子鍍，是將蒸發(fā)鍍和濺射鍍相結合的一種方法，這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強附著(zhù)力，有較高的沉積速率，膜的密度。
 
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